中大型工业等离子清洗机

四料盒式等离子清洗机 VPC-500F 半导体等离子清洗设备
产品描述
  • 四料盒式等离子清洗机:主要用于半导体行业的表面处理工作,适用于车间、生产线等多个场合,多料盒模式,处理更加高效。
工作原理

等离子清洗机(plasma cleaner)也叫等离子清洁机,或者等离子表面处理仪,是一种全新的高科技技术,利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态,也叫做物质的第四态,并不属于常见的固液气三态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括:离子、电子、原子、活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等。等离子清洁机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面,从而实现清洁、涂覆等目的。

产品特点

触摸屏操作界面

数字及图标多重工艺参数实时显示

三色灯异常报警功能

自动/手动操作模式切换

可存储多套工艺配方

远程操控,数据导出(可选)

特殊电极、气路设计,均匀性好

平板式、滚轮式载具平台(可选)

适用半导体封装引线框架的批量处理

应用领域

适合于半导体行业的表面处理

适用于制作车间、生产线等多个场合

多料盒的模式,能够高效的处理材料

产品参数

型号

VPC-500F

控制系统

控制方式

全自动控制(自动/手动切换)



PLC(标配)/PC(可选)


操作系统

Windows 10


触摸屏

7寸

整机规格

尺寸

W920×D1030×H1720mm

腔体

尺寸

W435×D425×H540mm


材质

铝合金(标配)/不锈钢(可选)

电极

结构

组合柜式


分隔数量

4个料盒

托架

材质

铝合金(标配)/不锈钢(可选)


形状

平板式/滚轮式(可选)

真空计

皮拉尼式真空计

1个

流量计

MFC质量流量控制器

2个;Ar、N2、H2(可选)

真空泵

机械油式旋片泵

1套

发生器

中频/射频

40KHz,0~1000W

13.56MHz,0~500W

额定功率

整机峰值功率

5KW

机台供电

三相五线式

AC-380V

选购品

干式泵、双级旋片真空泵+罗茨泵(泵组)、托架、温度传感器、H2安全阀、慢速泄气阀、慢速抽气阀、钢瓶减压阀、非标法兰、陶瓷紧固件


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